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1200C滑动双温区PECVD系统

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1200C滑动式双温区PECVD系统

电炉类型：高温电炉
电炉名称：1200C滑动式双温区PECVD系统
电炉类型：管式炉
电炉品牌：西格马1200C滑动双温区PECVD系统
电炉规格：
电炉温度：℃

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1200C滑动式双温区PECVD系统为实验室用小型PECVD系统，1200度小型PECVD系统配有多通道混气系统和真空泵。

滑动式双温区PECVD系统的管式炉炉体安装于移动架上，可左右滑动。PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。

滑动式双温区PECVD系统由射频电源、气体质子流量控制系统、滑动式管式炉控温系统、真空系统组成，可用于室温至1200℃条件下进行SiO2、SiNx薄膜的沉积，同时可实现TEOS源沉积，SiC膜层沉积以及液态气态源沉积其它材料，尤其适合于有机材料上高效保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。

系统名称	1200C滑动式双温区PECVD系统
系统型号	SGM PECVD-12IIH-3Z/G	SGM PECVD-12II6H-3Z/G
设计温度	1200*C
加热区长度	420mm	600mm
恒温区长度	280mm	390mm
温区	双温区	双温区
石英管管径	6 50/① 60/ ①80nlm	80/0）100mm
额定功率	3. 2Kw	4. 8Kw
额定电压	220V	220V
滑动方式	手动滑动/自动滑动（由温度控制器自动控制移动。当程序完成，炉子按设定的速度滑动）
温度控制	国产程序控温系统50段程序控温
控制精度	±1*C
炉管工作温度	＜1200C
气路法兰	采用多环密封技术卡箍快速连接
排风冷却装置	先进的空气隔热技术，结合热感应技术，当炉体表面温升到50C时，
	排温风扇将自动启动，使炉体表面快速降温。
气体控制方式	质量流量计（按键式）
气路数量	3路（可根据具体需要选配气路数量）
流量范围	OYOOsccm（标准汽升/分，可选配）氮气标定
精度	±1%E. S
响应时间	Isec
工作温度（流盘计）	5-45*C
工作压力	进气压力0. 05-0. 3Mpa（表压力）
进气方式	采用防倒流设计
规格	中真空	高真空
系统真空范围	10Pa-100Pa	lxl03Pa-lx10 ,Pa
真空泵	扩散泵，油污过滤器，额定电压220V,功率0.55Kw	真空分子泵理论极限真空度5x106Pa抽气速率1600L/S额定电压220V功率2K*
信号频率	13. 56MHz ±0.005%
功率输出范围	0-500W连续可调
反射功率	120W
射频输出接口	50Q, N-type, temale
功率稳定度	±0.1%
谐波分量	W-50dbe
供电电压	单相交流（187V-253V）频率50/60HZ
整机功率	270%
屏幕显示	正方向功率，匹配器电容位置，偏置电压值
整机尺寸	483 X 500 X88mm
炉体外形尺寸	340X580X555mm	480X770X605mm
系统外形尺寸	530X2310X750nun	530X2310X 750mm（不含高真空）
系统总重量	270kg	350kg

PECVD是什么意思？

PECVD中文名为等离子体增强化学气相沉积， Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指等离子体增强化学的气相沉积法。是生产人造钻石的一种工艺，这种方法有很多优点，比如颜色等级高，成膜质量好等。

PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).

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