1200℃真空CVD管式炉是由：真空管式炉、气体流量计、真空泵三部分构成。真空CVD管式炉 采用双层壳体结构，并带有风冷系统，使得壳体表面温度小于55℃ 。炉膛表面涂有1750℃氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度 。真空密封系统 由两个不锈钢密封法兰，极限真空度≤10-2 Pa or 10-4 Pa。

1200℃真空CVD管式炉有四路供气系统 可以用于控制一种到四种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制系统安装在移动架上，管式炉可以放在上面，气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀。结合管式炉，它可以用于CVD系统及退火炉，用来研究气体环境对材料的影响。

1200度滑式真空炉CVD系统由滑动式开启式真空管式炉、混气系统、真空及压力系统等组成。温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计，混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。 1200管式炉采用掺钼合金加热丝为加热元件，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用日本氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、节能等点。通过滑动炉体来实现快速的升降温；配置不同的真空系统来达到不错的的真空度。

真空CVD管式炉应用范围：

真空CVD管式炉高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测。粉末冶金行业以及义齿加工行业的烘烤、氧化锆盘预烧结等。根据加热区大小，进行小试，中试，批量生产。

真空CVD管式炉可用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。该系统技术成熟、质量可靠；该系统是材料实验室必备的不错的设备之一。 

真空CVD管式炉结构特点：

加热元件 ：质掺钼铁铬铝合金加热丝环形加热，温场均匀，能耗低升温速率建议:10℃/Min Max:20℃/Min

测温元件 ：K型热电偶

炉膛保温材料 ：1500型高纯氧化铝微晶体纤维，保温性能好

开门方式 ：上开式

壳体结构 ：双层，壳体间风扇制冷，可使炉体表面快速降温。

节能效果 ：保温时仅需40%功率

控制模式 ：智能PID调节、模糊控制、自整定功能

温度曲线 ：0段可编程控制，可设置30段升降温程序

随机配件

防护手套1双；坩埚钳1把；刚玉舟1只；石英管；炉塞；炉勾；6号内六角（法兰专用）； 法兰一套；配套气管；高温密封圈8个；产品说明书1份；仪表说明书1份；保修证书1份。

真空CVD管式炉可选配质量流量控制器跟浮子流量计。

质量流量控制器：
工作电压：185~245V/50Hz
额定输出功率：18W
控制范围：
控制器1：1~199 SCCM 
控制器2：1~499 SCCM 
工作温度：5~45 ?C
额定压力：3x106 Pa
准确度：±1% FS 
控制阀及管线连接等
浮子流量计：流量速率在25to250ml/min 

管式炉技术参数产品型号

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